Halvlederprofil termoelement

Oksidasjonsdiffusjonsovnen er et sentralt prosessutstyr for produksjon av PV -celler. Den blandes og diffuser spormengder av bor, fosfor og andre elementer på silisiumskiven ved høye temperaturer for å fremstille PN -veikryss og komponerer integrerte kretser fra den. Det kan også brukes til å forberede siox -filmer på overflaten av silisiumskiven for å beskytte skiver. Det er vanlig å bruke termoelementer som måler både de indre og ytre delene av ovnen for å kontrollere den indre temperaturen i diffusjonsovnen som kan utføre oksidasjonsprosessen. Hver spesifiserte temperatursone har en ytre og indre termoelement for å sikre at målresultatene er pålitelige. Multipunktets edle metallkvarts termoelementer brukes til å måle skivetemperatur, det har ofte 3 ~ 9 målepunkter, som representerer skivetemperaturen nøyaktig.

For dette formål har Duchin utviklet proprietære teknikker og produkter som flerpunkts edel metallkvarts termoelement for temperaturmåling av hele seksjonen i diffusjonsovnen, en kalibreringsanordning for multi-punkts termoelement.

Produktet har noen trekk ved pålitelig temperaturmåling, høy nøyaktighet, god stabilitet, rask termisk respons, anti-interferens, høy og lav temperatur påvirkningsmotstand, lang levetid og så videre. De tekniske parametrene til halvlederprofilens termoelement er som følger:

Manuell sveising

Automatisk sveising

Isolasjonstesting

Lasermerking

Lageradministrasjon

Termoelementet monteres

Vakuumlekkasjdeteksjon

Overflatepolering

Populære tags: Semiconductor Profile Termoelement, Kina halvlederprofiler